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Mar 12, 2023

Universal Photonics apresentará uma gama de produtos na Photonics West 2023

A Universal Photonics Incorporated (UPI), fabricante e distribuidora global de tecnologia crítica de revestimento e polimento, anuncia que apresentará consumíveis e máquinas para todas as aplicações de revestimento na Photonics West 2023 no Moscone Center em San Francisco, Califórnia, de 28 de janeiro a 2 de fevereiro .

A UPI estará localizada no pavilhão de exposições Sul nos estandes nº 1748 e nº 1749,

O estande nº 1748 apresentará máquinas de uma seleção de parceiros exclusivos da UPI. Em mãos estará a politriz dupla face TPM400A da SOMOS | IWT. Disponível para polimento ou lapidação, a máquina é conhecida pela alta precisão de rendimento e pode ser personalizada com recursos para atender às suas especificações. Adicionalmente, SOMOS | O IWT exibirá a serra de fio diamantado NCS200 com mesa de inclinação e rotação. A Turbo HKS contará com a Centrífuga T06, adequada para separar partículas nocivas de líquidos industriais. A máquina de chanfrar LG500 da DAMA, projetada para atender às demandas da indústria óptica em qualidade de chanfro e precisão dimensional de peças retas ou prismáticas, também estará em exibição.

O estande nº 1749 exibirá alguns dos muitos produtos consumíveis da UPI. A linha proprietária da UPI de boinas de poliuretano LP Unalon será útil, incluindo SC-955, ideal para polimento onde são necessárias taxas de remoção mais altas, planicidade consistente e um bom acabamento geral da superfície. Também está disponível o ladrilho Trizact Diamond da 3M, melhor para taxas de corte mais rápidas e menos danos à subsuperfície, ao mesmo tempo em que aumenta a produtividade. A ampla variedade de passo de polimento e obturação da UPI, com especificações personalizadas para suas necessidades, também será apresentada. Saiba mais sobre os compostos, pastas e pós de polimento da UPI, incluindo nossos polidores Hastilite exclusivos para ótica avançada, cada um projetado exclusivamente para remoção de material e acabamento de superfície ideais.

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